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EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的**型多入射角激光椭偏仪。
EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的**厚度测量。
EMPro采用了量拓科技多项**技术。
特点：
原子层量级的极高灵敏度
百毫秒量级的快速测量
简单方便的仪器操作
技术指标：
项目 | 技术指标 |
仪器型号 | EMPro31 |
激光波长 | 632.8nm (He-Ne Laser) |
（1）膜层厚度精度 | 0.01nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
（1）折射率精度 | 1x10-4 (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) |
单次测量时间 | 与测量设置相关，典型0.6s |
结构 | PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度） |
激光光束直径 | 1mm |
入射角度 | 40°-90°可手动调节，步进5° |
样品方位调整 |
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样品台尺寸 | 平面样品直径可达Φ170mm |
**的膜层范围 |
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**外形尺寸 | 887 x 332 x 552mm (入射角为90º时) |
仪器重量（净重） | 25Kg |
选配件 |
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软件 | ETEM软件：
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注：(1)精度：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。
性能保证：
- 高稳定性的He-Ne激光光源、先进的采样方法以及低噪声探测技术，保证了高稳定性和高准确度
- 高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准
- 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量
- 分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和**厚度的测量
- 一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
- 一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用
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